当研究室修士2年の四家寛也さんが、IEEE EDS Japan Joint Chapter Student Awardを受賞しました。 タイトル："A Global Shutter Wide Dynamic Range Soft X-ray CMOS Image Sensor with BSI Pinned Photodiode, Two-stage LOFIC and Voltage Domain Memory Bank" most.tohoku.ac.jp/blog/2021/shik…

2021年3月25日に研究室内で学位記伝達式を行いました。博士2名、修士4名、学士4名の学生が課程を修了し、先生から学位記が授与されました。感染予防を徹底しながら、オンラインと対面を併用して式を行いました。修了生の皆さん、おめでとうございます！（集合写真撮影時のみマスクを外しています）

学部3年生向けの研究室紹介パンフレットを今年度版に更新しました。ぜひご覧ください！ sgw.most.tohoku.ac.jp/recruit.html

当研究室修士2年の須釜侑希さんが、2021 International Image Sensor Workshopで発表を行いました。 タイトル："High-precision CMOS Proximity Capacitance Image Sensors with Large-format 12μm and High-resolution 2.8μm Pixels"

当研究室修士1年の及川哲さんが、2021 International Image Sensor Workshopで発表を行いました。 タイトル："A 1000fps High SNR Voltage-domain Global Shutter CMOS Image Sensor with Two-stage LOFIC for In-Situ Fluid Concentration Distribution Measurements"

学部3年生向けの研究室紹介パンフレットを更新しました。研究内容をより詳しく紹介しています。 ぜひご覧ください！ sgw.most.tohoku.ac.jp/recruit.html

当研究室修士2年の須釜侑希さんが、 映像情報メディア学会技術報告・情報センシング研究会で発表を行いました。 タイトル：" 大判12μm画素と高解像度2.8μm画素の高精度近接容量CMOSイメージセンサ"

当研究室修士1年の及川哲さんが、 映像情報メディア学会技術報告・情報センシング研究会で発表を行いました。 タイトル：" 流体濃度分布その場計測へ向けた1000 fps高SNRグローバルシャッタCMOSイメージセンサ"

当研究室修士2年の齊藤宏河さんが、シリコン材料・デバイス研究会で発表を行いました。 タイトル："電流計測プラットフォームを応用したSiN膜中トラップ放電電流の統計的計測"

当研究室修士2年の秋元瞭さんが、シリコン材料・デバイス研究会で発表を行いました。 タイトル："トランジスタ構造・動作領域・キャリア走行方向によるRTN挙動の統計的解析"

2022年3月25日に学位記伝達式が行われました。博士1名、修士5名、学士5名の学生が各課程を修了し、学位記が授与されました。修了生の皆さん、おめでとうございます！（集合写真撮影時のみマスクを外しています）

2022年3月4日に行われた須川成利先生の最終講義のアーカイブが公開されています。ぜひご覧ください。 youtube.com/watch?v=RE9hEP…

2022年3月25日に間脇武蔵さんと齊藤宏河さんが技術社会システム専攻長賞を受賞しました。 most.tohoku.ac.jp/blog/2022/2022…

黒田研究室の紹介動画がYoutubeで公開されました。2022年度誕生の新しい研究室をぜひご覧下さい！ youtu.be/BGVdKiw_sP8

9/28・29に学部3年に向けて、2020年度 研究室見学会が行われました。黒田研究室では、オンライン及び対面で見学会を行い、多くの3年生がご参加くださいました。 お越し頂きました皆様ありがとうございました!! 今後も個別の見学を受け付けておりますので、気軽にご連絡ください。

10/19にシリコン材料・デバイス研究会（SDM10月研究会：プロセス科学と新プロセス技術 ）がオンラインで開催され、修士1年の光田薫未さんが「次世代メモリ用薄膜の統計的解析を行う高精度・広範囲抵抗測定技術」と題して発表を行いました。 光田さんお疲れ様でした!!